產品中心

詳細介紹
| 品牌 | CYKY |
|---|
化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是:將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態(tài)反應物通入反應室,在基片(如硅片)表面發(fā)生化學反應,并生成固態(tài)薄膜沉積下來。
1200℃三通道CVD氣相沉積系統設計緊湊,使用方便。特別是豐富的圖文界面,即使您是**操作,該系統也能順利引導您很快掌握該CVD系統的使用和操作,您根本無需專業(yè)學習,為您節(jié)省大量的科研時間,真正做到事倍功半!
產品特點:
1、豐富的圖文信息:全尺寸液晶圖文界面
2、系統高度集成:各個部分均由軟件協同進行數據采集、交換、處理、輸出
3、可使實驗步驟程序化、自動化
1200℃三通道CVD氣相沉積系統技術參數:
項目 | 明細 |
供電電壓 | AC220V,50Hz |
MAX功率 | 5KW |
加熱溫區(qū) | 220mm+440mm+220mm |
工作溫度 | 1100℃ (1200℃<1h) |
控溫精度 | ±1℃ |
升溫速率 | 建議≤10℃/min |
控溫方式 | AI-PID 30段工藝曲線,可存儲多條 三溫區(qū)獨立控制,帶有過熱和斷偶保護 |
爐管材質 | 高純石英 |
爐管尺寸 | φ60mm O.D×1300mm L |
氣體通道 | 三通道質量流量計 |
氣體量程 | A:100sccm B:300sccm C:500sccm |
系統真空 | 5~10Pa(如需更高真空度可以選配其他的泵) |
產品咨詢
掃碼加微信