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三靶等離子濺射鍍膜儀（標準型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷

雙靶等離子濺射鍍膜儀（標準型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷

本型號單靶等離子濺射鍍膜儀（基礎型），采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng)，全部觸摸屏操作，便于學習使用